产品简介
基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是一种基于PLD的技术变体。
NRL集团引入了这项新技术,用于促进某些功能有机材料的薄膜沉积。
与传统的UV(5-6eV) PLD技术相比,MAPLE中的光化学反应可能会恶化有机分子和聚合物的功能。
在MAPLE中,通过将待沉积的有机物或聚合物与吸收激光波长的溶剂(基质)混合来制备特殊的靶。
除了光学吸收外,在沉积条件下的高蒸气压是基质的先决条件。
然后,液氮冷却液体目标物,使其冻结为固体。
激光辐射主要被目标的高挥发性、冷冻的溶剂(基质)分子吸收,这些分子随后从固体目标中脱离,捕获和带走感兴趣的有机分子。
在它们向基片传输的过程中,高挥发性的基质分子被抽走,将有机分子输送到基片上沉积薄膜,成功弥补了传统PLD的缺陷。
产品特点
独立的MAPLEPLD系统。
有机和聚合物薄膜的沉积。
在同一室的附加沉积源(可选):脉冲电子沉积(PED)、射频/直流溅射和直流离子源。
负载锁定基底阶段。
与XPS分析系统集成,晶片就地从PLD系统转移到分析系统。
应用领域
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。
脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。
PLD的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面,这样可以达到广泛的工作压力范围,从10-10Torr到100Torr。
通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。
Neocera在PLD设备与工艺开发方面具有丰富经验,Pioneer系列PLD系统是全球研发领域最为广泛使用的商业化系统。
Neocera不仅提供最基本的PLD系统,也提供完整的PLD实验室交钥匙方案。
技术参数
1. PLD真空室尺寸:12"/18”直径(Pioneer120-Advanced/Pioneer180Models)
2. 衬底尺寸:最大直径2"和/或多种1厘米x1厘米的样品
3. 衬底加热:最高500℃,拥有可编程的加热器
4. 基底旋转:20RPM,软件控制
5. 目标阶段:液氮冷却;单目标阶段为标准;多个目标(可选)
6. 真空装夹:衬底负载制动
7. 工业废气:按要求处理气体,50-100SCCMmfc电池
8. 软件:Windows7/Labview2013。
Pioneer 180 MAPLE PLD System激光脉冲沉积(PLD)Neocera,Pioneer 180 MAPLE PLD System
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