您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
产品简介脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)系统具有以下特点:- 发射高能脉冲(100ns)电子束(约1000A,15keV),可以在靶材上穿透将近1um,使靶材快速蒸发形成等离子体。- 靶材上的非平衡提取(烧灼)能使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。- 在最佳条件下,靶材的化学计量与沉积薄膜可以保持一致。- 所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED技术沉积各自的薄膜。系统的特点包括:- 独立的交钥匙脉冲电子束沉积系统PED。- 外延薄膜沉积,多层异质结构(heterostructures)与超晶格。- 升级选项:离子辅助PED、连续组份沉积PED、进样系统load-lock。- 可附加的沉积源:脉冲激光与射频/直流溅射。PED沉积的代表性材料示例有:- 高温超导(HTS)YBCO(和GdBCO)薄膜。- 顺电(Ba-SrTiO3)薄膜。- 金属氧化物(SrRuO3)薄膜。- 隔热/音玻璃(SiO2)膜和Al2O3膜。- 聚四氟乙烯(PTFE)薄膜。系统的技术指标包括:- 真空腔18"直径的球形腔体,8"CF窗口,6.75"CF PED源窗口,3个6"CF窗和额外的2.75"与1.33"CF窗口。- PED源电子枪的能量范围是8-20keV,脉冲能量范围是最大能量800mJ,最小能量100mJ。- 工艺气体压强范围是3-20mTorr,工艺气体包括氧气,氮气,氩气,脉冲能量变化范围为±10%,脉冲宽度为100ns,最大重复率为10Hzat15kV,5Hzat20kV。- 基片加热温度范围为最高850℃,基片旋转范围是1-30RPM(360°旋转),多靶材旋转台最多可容纳6个1"的靶材或3个2"的靶材等。系统的控制软件是Windows 7,LabVIEW 2013。PED系统还可配备外部的PED源触发器和真空泵干泵、涡轮分子泵等。
Neocera脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System,Pioneer 180 PED System
Neocera脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System信息由北京正通远恒科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于Neocera脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
群组论坛--测试分析仪器专家
您可能要找:Neocera脉冲电子沉积(PED)Neocera脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System价格Pioneer 180 PED System脉冲电子沉积(PED)参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号